Method und apparatus for rapid printing of near-field and imprint lithographic features

WO2007102987 Art A1 13. September 2007

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007102987
Aktenzeichen: EP07751258
Anmeldetag: 21. Februar 2007
Veröffentlichung: 13. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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