Photosensitive resin composition for photospacer, method for producing photospacer, substrate for liquid crystal display, liquid crystal display element, and liquid crystal display

WO2007105381 Art A1 20. September 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007105381
Aktenzeichen: EP07713714
Anmeldetag: 30. Januar 2007
Veröffentlichung: 20. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/1339C08F265/00G03F7/004G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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