Technique for monitoring and controlling a plasma process

WO2007106449 Art A2 20. September 2007

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007106449
Aktenzeichen: EP07752910
Anmeldetag: 9. März 2007
Veröffentlichung: 20. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H01J49/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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