Photosensitive composition, and material for formation of light-shield film for display device or photosensitive transfer material using the composition

WO2007108291 Art A1 27. September 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007108291
Aktenzeichen: EP07715102
Anmeldetag: 1. März 2007
Veröffentlichung: 27. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G02B5/20G03F7/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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