Process for producing semiconductor device

WO2007108494 Art A1 27. September 2007

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007108494
Aktenzeichen: EP07739215
Anmeldetag: 20. März 2007
Veröffentlichung: 27. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/265H01L21/8234H01L21/8238H01L27/088H01L27/092H01L29/417H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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