Lithographic apparatus and patterning device

WO2007110777 Art A2 4. Oktober 2007

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007110777
Aktenzeichen: EP07734553
Anmeldetag: 19. März 2007
Veröffentlichung: 4. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01Q1/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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