Method for smoothing a surface of a glass substrate, and substrate for a reflective mask blank used in euv lithography, obtainable by that method

WO2007111067 Art A1 4. Oktober 2007

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007111067
Aktenzeichen
EP07737356
Anmeldetag
19. Februar 2007
Veröffentlichung
4. Oktober 2007
Rechtsraum
WO
IPC
C03C17/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Asahi Glass Company, Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.331 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen