Photosensitive resin composition, photosensitive transfer material, partition wall and method for forming same, optical device and method for manufacturing same, and display
WO2007111356
Art A1
4. Oktober 2007
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007111356
- Aktenzeichen
- EP07740173
- Anmeldetag
- 28. März 2007
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/038C08F220/24C08F220/36G02B5/20G03F7/004G03F7/11G03F7/20G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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