Method of selectively depositing a thin film material at a semiconductor interface
WO2007111679
Art A2
4. Oktober 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007111679
- Aktenzeichen
- EP06850075
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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