A method of applying a pattern of metal, metal oxide and/or semiconductor material on a substrate

WO2007112878 Art A1 11. Oktober 2007

Anmelder: Sony Deutschland GmbH, Forschungszentrum Jülich GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007112878
Aktenzeichen: EP07723611
Anmeldetag: 26. März 2007
Veröffentlichung: 11. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sony Deutschland GmbH
Forschungszentrum Jülich GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇯🇵 Sony Group

Japanischer Technologie- und Unterhaltungskonzern mit Sitz in Tokio. Sony entwickelt Unterhaltungselektronik, Bildsensoren, Spielesysteme sowie Musik- und Filmangebote.

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🇩🇪 Forschungszentrum Jülich

Deutsche Großforschungseinrichtung der Helmholtz-Gemeinschaft mit Sitz in Jülich, gegründet 1956. Forschungsschwerpunkte sind Energie, Information und Gehirnforschung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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