Substrate processing apparatus and substrate placing table

WO2007114335 Art A1 11. Oktober 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007114335
Aktenzeichen: EP07740531
Anmeldetag: 30. März 2007
Veröffentlichung: 11. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/46H01L21/31H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von