Sputtering target for vertical magnetic recording medium film formation and method for manufacturing the same

WO2007114356 Art A1 11. Oktober 2007

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007114356
Aktenzeichen: EP07740597
Anmeldetag: 30. März 2007
Veröffentlichung: 11. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C1/05C22C32/00C23C14/35G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von