Exhaust structure of film-forming apparatus, film-forming apparatus, and method for processing exhaust gas
WO2007114427
Art A1
11. Oktober 2007
Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007114427
- Aktenzeichen
- EP07740834
- Anmeldetag
- 2. April 2007
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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