Device substrate washing method
WO2007114448
Art A1
11. Oktober 2007
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited, NTT Advanced Technology Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007114448
- Aktenzeichen
- EP07740933
- Anmeldetag
- 3. April 2007
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/42C11D7/50H01L21/027H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Asahi Glass Company, Limited
NTT Advanced Technology Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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