Semiconductor device and its manufacturing method

WO2007116501 Art A1 18. Oktober 2007

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007116501
Aktenzeichen: EP06730890
Anmeldetag: 31. März 2006
Veröffentlichung: 18. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8246H01L21/3205H01L21/60H01L21/66H01L23/52H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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