Method for manufacturing co-base sintered alloy sputtering target for formation of magnetic recording film which is less likely to generate particles, and co-base sintered alloy sputtering target for formation of magnetic recording film

WO2007116834 Art A1 18. Oktober 2007

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007116834
Aktenzeichen: EP07740659
Anmeldetag: 30. März 2007
Veröffentlichung: 18. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C1/04C22C27/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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