Phase shifting mask having a calibration feature and method therefor
WO2007117319
Art A2
18. Oktober 2007
Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007117319
- Aktenzeichen
- EP06850894
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 18. Oktober 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03C5/00G03F9/00G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Freescale Semiconductor, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Freescale Semiconductor
Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.
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