Phase shifting mask having a calibration feature and method therefor

WO2007117319 Art A2 18. Oktober 2007

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007117319
Aktenzeichen
EP06850894
Anmeldetag
7. Dezember 2006
Veröffentlichung
18. Oktober 2007
Rechtsraum
WO
IPC
G03C5/00G03F9/00G03F1/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Freescale Semiconductor, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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