Method for determining deformation parameters for a patterned device in a lithography system

WO2007117519 Art A2 18. Oktober 2007

Anmelder: MOLECULAR IMPRINTS, INC., Board of Regents, The University of Texas System 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007117519
Aktenzeichen: EP07754870
Anmeldetag: 3. April 2007
Veröffentlichung: 18. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: MOLECULAR IMPRINTS, INC.
Board of Regents, The University of Texas System
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of Texas System

US-amerikanischer Universitätsverbund mit Sitz in Austin, Texas, bestehend aus mehreren Hochschulen und medizinischen Zentren. Der University of Texas System ist in Forschung zu Medizin, Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Biotechnologie aktiv.

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