Semiconductor device with a multi-plate isolation structure

WO2007117779 Art A2 18. Oktober 2007

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007117779
Aktenzeichen
EP07757471
Anmeldetag
26. Februar 2007
Veröffentlichung
18. Oktober 2007
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/8232H01L21/335
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Freescale Semiconductor, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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