Composition For Etching A Metal Hard Mask Material in Semiconductor Processing

WO2007117880 Art A1 18. Oktober 2007

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007117880
Aktenzeichen: EP07758848
Anmeldetag: 20. März 2007
Veröffentlichung: 18. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C09K13/08C09K13/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe

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