Method and apparatus for producing silicon

WO2007119605 Art A1 25. Oktober 2007

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007119605
Aktenzeichen: EP07740480
Anmeldetag: 30. März 2007
Veröffentlichung: 25. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/033H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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