Photosensitive resin composition and photosensitive element using same

WO2007119699 Art A1 25. Oktober 2007

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007119699
Aktenzeichen: EP07741205
Anmeldetag: 6. April 2007
Veröffentlichung: 25. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/032

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von