Exposure method, exposure apparatus and device manufacturing method

WO2007119821 Art A1 25. Oktober 2007

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007119821
Aktenzeichen: EP07741608
Anmeldetag: 13. April 2007
Veröffentlichung: 25. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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