Double Exposure Photolithographic Process
WO2007120602
Art A2
25. Oktober 2007
Anmelder: Altera Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007120602
- Aktenzeichen
- EP07775009
- Anmeldetag
- 4. April 2007
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Altera Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Altera Corporation
US-amerikanischer Hersteller programmierbarer Logikbausteine (FPGAs) für Kommunikations-, Industrie- und Rechenzentrumsanwendungen.
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