Methods and apparatus for selective pre-coating of a plasma processing chamber

WO2007120994 Art A2 25. Oktober 2007

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007120994
Aktenzeichen: EP07778905
Anmeldetag: 1. März 2007
Veröffentlichung: 25. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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