Nanometer-precision tip-to-substrate control and pattern registration for scanning-probe lithography

WO2007121208 Art A2 25. Oktober 2007

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007121208
Aktenzeichen: EP07760440
Anmeldetag: 11. April 2007
Veröffentlichung: 25. Oktober 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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