Substrate treating device managing method

WO2007122902 Art A1 1. November 2007

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007122902
Aktenzeichen: EP07738338
Anmeldetag: 12. März 2007
Veröffentlichung: 1. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/205H05K13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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