Method for producing oxide particle, slurry, polishing agent and method for polishing substrate

WO2007123203 Art A1 1. November 2007

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007123203
Aktenzeichen: EP07742064
Anmeldetag: 20. April 2007
Veröffentlichung: 1. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C01F17/00B24B37/00H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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