Electron microscope and method for measuring aberration characteristic of objective lens system thereof
WO2007125652
Art A1
8. November 2007
Anmelder: National Institute for Materials Science 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007125652
- Aktenzeichen
- EP07737112
- Anmeldetag
- 25. April 2007
- Veröffentlichung
- 8. November 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/153H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute for Materials Science
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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