Measuring and inspecting method, measuring and inspecting apparatus, exposing method, device manufacturing method and device manufacturing apparatus

WO2007125853 Art A1 8. November 2007

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007125853
Aktenzeichen: EP07742151
Anmeldetag: 23. April 2007
Veröffentlichung: 8. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G01N21/956G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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