Method of forming resist pattern

WO2007125971 Art A1 8. November 2007

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007125971
Aktenzeichen: EP07742413
Anmeldetag: 25. April 2007
Veröffentlichung: 8. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/38G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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