Substrate processing chamber with dielectric barrier discharge lamp assembly

WO2007127947 Art A2 8. November 2007

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007127947
Aktenzeichen: EP07782816
Anmeldetag: 27. April 2007
Veröffentlichung: 8. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: A21B2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Landwirtschaft & Nahrungsmitteltechnik

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