Siloxane epoxy polymers for redistribution layer applications

WO2007127984 Art A2 8. November 2007

Anmelder: Polyset Company, Inc., RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007127984
Aktenzeichen: EP07782927
Anmeldetag: 30. April 2007
Veröffentlichung: 8. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Polyset Company, Inc.
RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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