Imaging position correction method, imaging method, and substrate imaging apparatus

WO2007129733 Art A1 15. November 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007129733
Aktenzeichen: EP07743037
Anmeldetag: 9. Mai 2007
Veröffentlichung: 15. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01B11/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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