Anti-reflection coating for euv mask

WO2007129890 Art A1 15. November 2007

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007129890
Aktenzeichen: EP07747365
Anmeldetag: 5. April 2007
Veröffentlichung: 15. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von