Halbleiterbehandlungsvorrichtung für ein Cvd- oder Rtp-Verfahren
Anmelder: AIXTRON AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007131547
- Aktenzeichen
- EP06755185
- Anmeldetag
- 15. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 22. November 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/687H01L21/68H01L21/00C23C16/455C23C16/458C30B25/12C30B31/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIXTRON AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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Die Wuppertaler Kanzlei geht auf Johannes Rieder zurück, der schon vor dem ersten deutschen Patentanwaltsgesetz von 1900 als Berater für Erfinder tätig war. Mit über hundertjähriger Kontinuität am Standort zählt sie zu den traditionsreichsten Patentanwaltspraxen im Bergischen Land.