Positive Photosensitive Resin Composition Containing Siloxane Compound

WO2007132892 Art A1 22. November 2007

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007132892
Aktenzeichen: EP07743477
Anmeldetag: 16. Mai 2007
Veröffentlichung: 22. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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