Photoresist stripping chamber and methods of etching photoresist on substrates

WO2007133413 Art A2 22. November 2007

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007133413
Aktenzeichen: EP07756047
Anmeldetag: 25. April 2007
Veröffentlichung: 22. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/26B44C1/22H01L21/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von