A method for manipulation of oxygen within semiconductor materials

WO2007133949 Art A1 22. November 2007

Anmelder: ATMEL CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007133949
Aktenzeichen: EP07761794
Anmeldetag: 3. Mai 2007
Veröffentlichung: 22. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ATMEL CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Atmel

Atmel war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller für Mikrocontroller und wurde 2016 von Microchip Technology übernommen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Elektronik. Anmeldungen liegen im Zeitraum 2000 bis 2021.

492 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von