Method and apparatus for providing mask in semiconductor processing

WO2007136515 Art A1 29. November 2007

Anmelder: Lam Research Corporation, Kim, Jonathan 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007136515
Aktenzeichen: EP07776608
Anmeldetag: 2. Mai 2007
Veröffentlichung: 29. November 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/311H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Lam Research Corporation
Kim, Jonathan
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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