New and improved ion source
WO2007136722
Art A2
29. November 2007
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007136722
- Aktenzeichen
- EP07795003
- Anmeldetag
- 17. Mai 2007
- Veröffentlichung
- 29. November 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Axcelis Technologies, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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