Composition for forming insulating films, process for production thereof, silica-base insulating films, and process for the formation of the films

WO2007139004 Art A1 6. Dezember 2007

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007139004
Aktenzeichen: EP07744115
Anmeldetag: 25. Mai 2007
Veröffentlichung: 6. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C09D183/14C08G77/50H01B3/46H01L21/312H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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