Antireflective Hardmask Composition

WO2007139268 Art A1 6. Dezember 2007

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007139268
Aktenzeichen: EP06835606
Anmeldetag: 29. Dezember 2006
Veröffentlichung: 6. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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