Vorrichtung und Verfahren zum Aufdampfen eines Pulverförmigen Organischen Ausgangsstoffs

WO2007141235 Art A1 13. Dezember 2007

Anmelder: AIXTRON AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007141235
Aktenzeichen: EP07729849
Anmeldetag: 4. Juni 2007
Veröffentlichung: 13. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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