Method for pattern formation and high-carbon-containing resin composition

WO2007142209 Art A1 13. Dezember 2007

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007142209
Aktenzeichen: EP07744679
Anmeldetag: 5. Juni 2007
Veröffentlichung: 13. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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