Sputtering target for forming high strength optical recording medium protection film

WO2007142333 Art A1 13. Dezember 2007

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007142333
Aktenzeichen: EP07744959
Anmeldetag: 8. Juni 2007
Veröffentlichung: 13. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00C04B35/10C04B35/48C04B35/50G11B7/254G11B7/257G11B7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

1.978 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von