Shower plate, method for manufacturing the shower plate, plasma processing apparatus using the shower plate, plasma processing method and electronic device manufacturing method

WO2007145229 Art A1 21. Dezember 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd., National University Corporation Tohoku Unversity 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007145229
Aktenzeichen: EP07745140
Anmeldetag: 13. Juni 2007
Veröffentlichung: 21. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/455H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Ltd.
National University Corporation Tohoku Unversity
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von