Immersion lithography system and method having an immersion fluid confinement plate for submerging the substrate to be imaged in immersion fluid

WO2007145725 Art A2 21. Dezember 2007

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007145725
Aktenzeichen: EP07794538
Anmeldetag: 4. Mai 2007
Veröffentlichung: 21. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03B27/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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