Methods and apparatus for supporting a substrate in a horizontal orientation during cleaning

WO2007145904 Art A2 21. Dezember 2007

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007145904
Aktenzeichen: EP07795720
Anmeldetag: 4. Juni 2007
Veröffentlichung: 21. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: A46B13/00B08B3/10B08B7/04B24B51/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von