Dielectric structure and method for manufacturing same

WO2007148459 Art A1 27. Dezember 2007

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007148459
Aktenzeichen: EP07739657
Anmeldetag: 26. März 2007
Veröffentlichung: 27. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L41/22H01L21/316H01L41/09H01L41/18H01L41/187

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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